夫特理工大学精密微系统工程专业博士。

他现在不但有了自己的团队，已经掌控多项光刻机制造专利技术。

这些专利技术虽然不是国际最顶尖的，但却绕开了国际已有专利壁垒，能够让华夏在不侵权其他国家的情况下，生产出自己光刻机。

当然，依靠他们专利生产出来的光刻机，还是duv光刻机，只能制造55纳米芯片。

采用多重曝光技术，也仅仅能生产45纳米芯片。

而此时阿尔斯麦公司生产的euv光刻机，已经能生产7纳米芯片。

差距巨大！

喜欢官途纵横，从镇委大院开始